2023上海国际光刻设备与光掩膜技术展览会

Shanghai Photolithography Equipment and Mask Technology Exhibition

基本信息

时间：2023年11月22-24日

地点：上海新国际博览中心 

展会简介 

   微电子技术的发展一直是光刻设备和技术变革的动力，21世纪光刻技术将继续居于诸多技术之首。光刻技术从诞生以来,在半导体加工制造行业中,作为图形转移技术而广为应用。随着芯片集成度的不断提高、器件尺寸的不断缩小以及器件功能的不断提高,半导体加工技术中最为关键的光刻技术和光刻工艺设备,必将发生显著的变化。

随着集成电路产业的发展，高端芯片的集成度达到了数千乃至数亿晶体管，推动芯片封装技术向更高密度、更高性能发展，在传统的接近/接触式光刻机日趋无法满足高性能、高密度、低成本的先进封装工艺发展需求的情况下，先进的大视场、大焦深、高精度投影光刻机逐步成为先进封装生产线的关键设备。“2023上海国际光刻设备与光掩膜技术展览会”将于11月22-24日在上海新国际博览中心隆重举办，欢迎广大相关单位参展、参观！ 

参展理由

1、品牌吸引力-在同行和客户间展示形象、提升行业地位、品牌价值度、知名度、荣誉度。

2、市场策略-了解市场信息、拓展销售渠道、获取市场订单、维护销售网络。

3、建立进口、批发、经销、团购、零售的销售渠道。

4、获取产品的忠实粉丝您的品牌将会被专业及大众媒体关注和跟踪宣传，成为产品中的明星。

观众邀请

邀请全国、省、市、各相关科研单位：电子、微电子、光电子、集成电路、半导体、微/纳电机系统、芯片制造、生物器件、纳米科技、平板显示、IC制造、光伏、航空航天、国防军工、IC、TP、LED、LCD、分立器件、太阳能、印刷、影像等制造业、大学、研究所、咨询机构和公共机构的专家代表等人员到会参观、洽谈。

展会亮点

平台：缔造行业采购交流平台；

了解：规划、设计与施工国内外产品新技术及服务；

建立：用户直达现场，构建新的客户关系；

结识：上下游产业联动，精彩论坛、沙龙助推业界专家、同仁及用户零距离接触；

推广：通过主承办单位强大的行业沉淀，为您提供广阔的市场推广；

日程安排

报到布展：

2023年11月20-21日

展出时间：

2023年11月22日

2023年11月23日

2023年11月24日

参展范围

◆曝光光源、光学系统、电系统、机械系统和控制系统等；

◆光刻机、光刻技术、步进投影光刻机、扫描投影光刻机、纳米光刻技术、无掩模光刻技术、沉浸式光刻技术、准分子激光光刻技术、极紫外光刻机、电子束光刻、离子束光刻、X射线光刻、STM光刻、纳米压印光刻技术、微光刻技术、电子束曝光机、离子束曝光、3D 打印、刻蚀机、光刻机零部件、光刻前处理材料、曝光系统、光刻-掩模无机芯片与加工系统、光源与光刻胶、光刻胶原材料、光刻胶涂覆与处理设备等；

◆光掩膜、铬版、干版，凸版、液体凸版、菲林、二元光掩膜及相位移光掩膜、光掩膜图形描绘设备、光掩模测试等；

联系我们

联系人：李先生150-0190-9485（同微信）

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